[实用新型]一种浸没式光刻机的加热器装置有效
申请号: | 202220016641.6 | 申请日: | 2022-01-06 |
公开(公告)号: | CN216979586U | 公开(公告)日: | 2022-07-15 |
发明(设计)人: | 何威威 | 申请(专利权)人: | 苏州欣威晟电子科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H05B1/02;H05B3/40 |
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地址: | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了光刻机技术领域的一种浸没式光刻机的加热器装置,包括光刻机主体,光刻机主体的前侧右端安装有保护门,光刻机主体两侧内壁的下部均转动安装有转动轴,光刻机主体的左侧下部安装有电机,两组转动轴相互靠近的一侧均设置有夹持组件,光刻机主体后侧内壁的上部安装有T型板,T型板的底部安装有激光镜头,光刻机主体顶部内壁的左侧安装有温度传感器,光刻机主体两侧内壁的中部均设置有加热组件,光刻机主体的左侧中部安装有控制面板,本实用新型使得硅片可以被全方位的刻印,实用性较高,有利于推广,同时可以对硅片进行加热,有利于消除加工硬化,提高了光刻机的工作效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 浸没 光刻 加热器 装置 | ||
【主权项】:
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