[发明专利]一种面向椭偏仪的测量一致性优化方法及装置在审

专利信息
申请号: 202211735260.4 申请日: 2022-12-31
公开(公告)号: CN116223391A 公开(公告)日: 2023-06-06
发明(设计)人: 陈军;江攀;何勇;杨成;熊伟东;李伟奇;张传维 申请(专利权)人: 武汉颐光科技有限公司
主分类号: G01N21/21 分类号: G01N21/21;G01N21/01;G01N1/28
代理公司: 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242 代理人: 廉海涛
地址: 430000 湖北省武汉市东湖新技*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种面向椭偏仪的测量一致性优化方法及装置,包括:利用待校准椭偏仪测量标准样品,对椭偏仪进行系统校准,获得椭偏仪的系统参数;对所述系统参数进行数学解析,得到椭偏仪测量系统中每个光学器件的参数值;根据解析得出的光学器件的参数值与标准数值的偏差,通过硬件调试,对每个光学器件的参数值进行优化,使对应的光学器件参数值与标准数值保持一致。通过对多台椭偏仪分别进行系统校准和参数提取,优化调整每台仪器的器件,保证每台仪器校准出的系统参数值,从而提高多台椭偏仪的测量结果一致性。
搜索关键词: 一种 面向 椭偏仪 测量 一致性 优化 方法 装置
【主权项】:
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