[发明专利]激光直写光刻机和自动聚焦控制方法在审
| 申请号： | 202211633554.6 | 申请日： | 2022-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN115857283A | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 吴春晓;白跃 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B7/09;G02B7/28 |
| 代理公司： | 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 | 代理人： | 王雪兰 |
| 地址： | 230088 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种激光直写光刻机和自动聚焦控制方法，所述激光直写光刻机包括：曝光平台，用于承载待曝光基板；运动机构，运动机构与曝光平台连接；曝光光路机构，曝光光路机构包括成像物镜，曝光光路机构用于在曝光平台移动至曝光位置时对待曝光基板进行曝光处理；高度调节机构包括：高度采集模块，高度采集模块与曝光光路机构连接，用于采集曝光位置处待曝光基板的高度信息；高度调节模块，高度调节模块与成像物镜连接，用于驱动成像物镜沿第一方向移动；控制模块根据目标移动信息控制高度调节模块执行调节动作。采用该激光直写光刻机可以对待曝光基板高度起伏进行实时补偿，解决了激光直写光刻机进行曝光时由于待曝光基板高度起伏产生离焦的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 光刻 自动 聚焦 控制 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥芯碁微电子装备股份有限公司，未经合肥芯碁微电子装备股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202211633554.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
