[发明专利]激光直写光刻机和自动聚焦控制方法

权利要求书

1.一种激光直写光刻机，其特征在于，包括：

曝光平台，用于承载待曝光基板；

运动机构，所述运动机构与所述曝光平台连接，用于驱动所述曝光平台移动；

曝光光路机构，所述曝光光路机构包括成像物镜，所述曝光光路机构用于在所述曝光平台移动至曝光位置时，对所述曝光平台上的待曝光基板进行曝光处理；

高度调节机构，所述高度调节机构包括：

高度采集模块，所述高度采集模块与所述曝光光路机构连接，用于采集所述曝光位置处所述待曝光基板的高度信息；

高度调节模块，所述高度调节模块与所述成像物镜连接，用于驱动所述成像物镜沿第一方向移动，以改变所述成像物镜与所述待曝光基板之间的物距，其中，所述第一方向为垂直于所述曝光平台的方向；

控制模块，所述控制模块与所述高度采集模块、所述高度调节模块连接，用于根据所述高度信息确定目标移动信息，根据所述目标移动信息控制所述高度调节模块执行调节动作，以使得所述成像物镜完成聚焦。

2.根据权利要求1所述的激光直写光刻机，其特征在于，所述高度调节模块包括：

驱动器，所述驱动器与所述控制模块连接，用于根据所述目标移动信息执行调节动作；

致动器，所述致动器与所述成像物镜、所述驱动器连接，用于在所述驱动器的驱动下，带动所述成像物镜沿第一方向移动，以改变所述成像物镜与所述待曝光基板之间的物距。

3.根据权利要求2所述的激光直写光刻机，其特征在于，所述致动器为音圈电机致动器或压电陶瓷致动器。

4.根据权利要求1-3任一项所述的激光直写光刻机，其特征在于，所述高度采集模块至少包括第一高度采集单元和第二高度采集单元；

其中，所述第一高度采集单元和第二高度采集单元沿曝光方向分别设于所述成像物镜的两侧。

5.一种自动聚焦控制方法，其特征在于，用于权利要求1-4任一项所述的激光直写光刻机，所述自动聚焦控制方法包括：

接收所述激光直写光刻机内高度采集模块提供的曝光位置处待曝光基板的高度信息；

根据所述高度信息确定目标移动信息；

根据所述目标移动信息控制所述激光直写光刻机内高度调节模块执行调节动作，以使得所述激光直写光刻机的成像物镜完成聚焦。

6.根据权利要求5所述的自动聚焦控制方法，其特征在于，根据所述高度信息确定目标移动信息，包括：

对所述高度信息进行筛选处理和滤波处理，以获得处理后的高度信息；根据所述处理后的高度信息，获得所述目标移动信息。

7.根据权利要求5所述的自动聚焦控制方法，其特征在于，在根据所述目标移动信息控制所述激光直写光刻机内高度调节模块执行调节动作之前，所述自动聚焦控制方法还包括：

判断接收所述高度信息的持续时长是否达到预设时长；

若达到所述预设时长，则发送所述目标移动信息至所述高度调节模块。

8.根据权利要求7所述的自动聚焦控制方法，其特征在于，所述自动聚焦控制方法还包括：

若未达到所述预设时长，则对所述目标移动信息进行存储；

直至所述持续时长达到所述预设时长后，按先入先出的方式发送所述目标移动信息。

9.根据权利要求5-8任一项所述的自动聚焦控制方法，其特征在于，所述目标移动信息包括目标移动方向和目标移动距离。

10.根据权利要求5所述的自动聚焦控制方法，其特征在于，所述自动聚焦控制方法还包括：

获取所述激光直写光刻机在进行曝光时的曝光方向，其中，所述曝光方向包括正向曝光和反向曝光；

根据所述曝光方向控制所述高度采集模块内第一高度采集单元或第二高度采集单元的开启状态。