[发明专利]基于微透镜阵列的对准套刻方法及装置在审
| 申请号： | 202211584595.0 | 申请日： | 2022-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN115933327A | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 周锐;刘祥福;高娜;严星;王振忠;洪明辉 | 申请（专利权）人： | 厦门大学;嘉庚创新实验室 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 厦门加减专利代理事务所(普通合伙) 35234 | 代理人： | 曾启航 |
| 地址： | 361000 *** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体微纳器件加工制造技术领域，本发明提供一种对准套刻装置，其包括转台、位移装置、对准图案采集系统和对准图案分析系统，转台上放置有样片，位移装置连接转台的底部用于将转台位移至指定位置，对准图案采集系统对准转台，用于获取样片的图像，样片的图像至少包括阵列结构轮廓，对准图案分析系统耦接对准图案采集系统，用于将获得的阵列结构轮廓与预设标准图案进行比对，以判断样片是否对准，当判断样片处于未对准状态时，转台进行转动调节，直至样片处于对准状态。借此，无需在掩膜版和样片上加工多个标记来进行对准，便可以实现整个样片的图像对准，省去多个高精度相机反复调整寻找对准标记的繁杂步骤，使对准套刻工艺更高效。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 透镜 阵列 对准 方法 装置 | ||
【主权项】：
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