[发明专利]聚合物表面抗原子氧/截紫外改性膜层及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 202211564823.8 | 申请日： | 2022-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN115746368B | 公开（公告）日： | 2023-10-13 |
| 发明（设计）人： | 谷红宇;吕少波;张锦麟;章俞之;宋力昕 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04;C08J7/12;C08L27/12;C09D183/06;C09D7/61 |
| 代理公司： | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲;郑优丽 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及聚合物表面抗原子氧/截紫外改性膜层及其制备方法和应用。所述聚合物表面抗原子氧/截紫外改性膜层包含C、O、Si，以及Ti、Zn、Ce、Fe中的一种或多种元素组成；优选包含Si‑O‑Si、Si‑O‑Ti、Ti‑O‑Ti、Si‑O‑Zn、Zn‑O‑Zn中至少一种骨架构成的有机‑无机杂化材料。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合物 表面抗原 紫外 改性 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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