[发明专利]一种应用于高低温传函仪的红外中继系统在审

专利信息
申请号: 202211543648.4 申请日: 2022-12-02
公开(公告)号: CN115931308A 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 柴炎;李彪;吴耀;李勇;朱广亮;张伟 申请(专利权)人: 湖北久之洋红外系统股份有限公司
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 许美红;张宇
地址: 430223 湖北省*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种应用于高低温传函仪的红外中继系统,物面与像面分别对应被测镜头焦面与点源探测器靶面,实现两者共轭,采用二次成像的结构形式,将被测镜头的焦面共轭成像至温箱外中间像面,刀口/狭缝放置于中间像面位置,实现刀口/狭缝温箱外扫描,并再共轭至点源探测器靶面,实现信号传递,便于信号MTF解算,被测镜头焦面经过温箱保护窗口和前组成像至刀口/狭缝处,再经过后组成像系统共轭成像至点源探测器靶面。本发明中继系统放大倍率为1×,物方数值孔径为0.25,工作波长3μm~5μm,刀口/狭缝处中间像点和像面处的传函在100lp/mm处均接近衍射极限,达到0.1以上。
搜索关键词: 一种 应用于 低温 传函仪 红外 中继 系统
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