[发明专利]一种正负压对称的SOI压力敏感芯片设计方法在审

专利信息
申请号: 202211490848.8 申请日: 2022-11-25
公开(公告)号: CN115979470A 公开(公告)日: 2023-04-18
发明(设计)人: 黄炜;高国民;田开芳;周岚生;陈林玉;朱宁;牛孟霄 申请(专利权)人: 中化天康科技(南京)有限公司;中国化学工程第十四建设有限公司
主分类号: G01L1/18 分类号: G01L1/18;B81B3/00;G01L9/06;G01L13/06
代理公司: 南京众联专利代理有限公司 32206 代理人: 毕东峰
地址: 210044 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种正负压对称的SOI压力敏感芯片设计方法,包括:针对压力敏感电阻设计敏感膜片的中心和边缘两个不同区域的情况,对敏感膜片进行应力模拟分析;根据发生最大应变力位置确定所述压力敏感电阻的区域,并确定所述压力敏感电阻与所述发生最大应变力位置之间的距离,所述最大应变力位置为腐蚀斜坡的根部位置,当对芯片正面及反面施加同样大小压力时,两个方向的正负应变和位移变化均相等,保证敏感电阻所处于弹性膜片的位置,通过应力对称设计和应力匹配工艺,制作出正负压对称的压力敏感芯片,当正反两侧分别受到同样量值的压力时,输出保持一致,该种结构的敏感芯片正反方向对压力敏感的对称性很好,正面与背面应力相匹配。
搜索关键词: 一种 正负 对称 soi 压力 敏感 芯片 设计 方法
【主权项】:
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