[发明专利]光学邻近修正方法、系统、电子设备及存储介质

摘要

本发明公开了一种光学邻近修正方法、系统及计算机可读存储介质，包括：获取第一设计版图、第二设计版图以及第一设计版图的第一掩膜版图，其中，第一掩膜版图由对第一设计版图数据转换得到；将第一设计版图与第二设计版图进行异或比较，生成待修正区域信息，其中，所述待修正区域信息包括区域坐标信息；根据待修正区域信息以及第一掩膜版图对第二设计版图进行光学邻近修正，得到修正结果；根据区域坐标信息以及修正结果对第一掩膜版图进行替换处理，得到第二掩膜版图。本发明实施例中，能够自动比较第二设计版图与第一设计版图的差异，提高光学修正效率。