[发明专利]光学邻近修正方法、系统、电子设备及存储介质

权利要求书

1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，所述方法包括：

获取第一设计版图、第二设计版图以及所述第一设计版图的第一掩膜版图，其中，所述第一掩膜版图由对所述第一设计版图数据转换得到；

将所述第一设计版图与所述第二设计版图进行异或比较，生成待修正区域信息，其中，所述待修正区域信息包括区域坐标信息；

根据所述待修正区域信息以及所述第一掩膜版图对所述第二设计版图进行光学邻近修正，得到修正结果；

根据所述区域坐标信息以及所述修正结果对所述第一掩膜版图进行替换处理，得到第二掩膜版图。

2.根据权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述将所述第一设计版图与所述第二设计版图进行异或比较，生成待修正区域信息，包括：

将所述第一设计版图与所述第二设计版图进行异或比较，得到差异信息；

对所述差异信息进行空间聚类处理，生成所述待修正区域信息。

3.根据权利要求2所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述对所述差异信息进行空间聚类处理，生成所述待修正区域信息，包括：

基于预设的空间聚类算法对所述差异信息进行计算，得到多边形区域信息，其中，所述多边形区域信息用于表征多个多边形区域的亲疏关系；

对所述多边形区域信息进行区域划分，得到所述待修正区域信息。

4.根据权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述根据所述待修正区域信息以及所述第一掩膜版图对所述第二设计版图进行光学邻近修正，得到修正结果，包括：

根据所述待修正区域信息确定至少一个目标矩形区域；

在所述目标矩形区域内对所述第二设计版图进行数据提取，得到第二设计版图切片；

在所述目标矩形区域内对所述第一掩膜版图进行数据提取，得到掩膜图形数据；

根据所述掩膜图形数据对所述第二设计版图切片进行光学邻近修正，得到所述修正结果。

5.根据权利要求4所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述根据所述待修正区域信息确定至少一个目标矩形区域，包括：

根据所述区域坐标信息确定待修正区域面积；

对所述待修正区域面积进行扩大光学直径操作，得到所述目标矩形区域。

6.根据权利要求4所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述根据所述掩膜图形数据对所述第二设计版图切片进行光学邻近修正，得到所述修正结果，包括：

基于预设的光刻模型以及预配置的配方参数对所述第二设计版图切片进行修正，得到切片修正结果；

根据所述掩膜图形数据对所述切片修正结果进行图形修正，得到所述修正结果。

7.根据权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述根据所述区域坐标信息以及所述修正结果对所述第一掩膜版图进行替换处理，得到第二掩膜版图，包括：

根据所述区域坐标信息在所述第一掩膜版图中确定与所述修正结果对应的缝合区域；

根据所述修正结果对所述第一掩膜版图中的缝合区域进行替换，得到所述第二掩膜版图。

8.一种光学邻近修正系统，其特征在于，包括：

版图获取模块，用于获取第一设计版图、第二设计版图以及所述第一设计版图的第一掩膜版图，其中，所述第一掩膜版图由对所述第一设计版图数据转换得到；

版图比较模块，用于将所述第一设计版图与所述第二设计版图进行异或比较，生成待修正区域信息，其中，所述待修正区域信息包括区域坐标信息；

光学修正模块，用于根据所述待修正区域信息以及所述第一掩膜版图对所述第二设计版图进行光学邻近修正，得到修正结果；

数据替换模块，用于根据所述区域坐标信息以及所述修正结果对所述第一掩膜版图进行替换处理，得到第二掩膜版图。

9.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求1至7任一项所述的光学邻近修正方法。

10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质存储有计算机可执行指令，所述计算机可执行指令用于使计算机执行如权利要求1至7任意一项所述的光学邻近修正方法。