[发明专利]一种抗电磁干扰的电子光栅制作方法有效
| 申请号： | 202211438508.0 | 申请日： | 2022-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN115774296B | 公开（公告）日： | 2023-07-18 |
| 发明（设计）人： | 梁可心 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京翔石知识产权代理事务所(普通合伙) 11816 | 代理人： | 刘翔 |
| 地址： | 100000 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及电子光栅设备制作技术领域，尤其涉及一种抗电磁干扰的电子光栅制作方法，包括：利用监控模块控制条纹的宽度与任意相邻条纹之间的间距均调整为第一预设间距；监控模块控制执行模块将光栅基底进行蚀刻；将任意两个光栅基底的被蚀刻部分相互贴合以形成光栅半成品；将光栅半成品封装为光栅成品；将凸透镜安装在光栅成品与屏幕相异的一侧，并使凸透镜的凸面向远离光栅成品的一侧；在有效避免了光栅本身的抗短波电磁干扰能力的同时，提升了外部抗压能力，并避免了因屏幕传输故障导致的光栅成像被破坏的问题，从而有效提升了光栅成像的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电磁 干扰 电子 光栅 制作方法 | ||
【主权项】：
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