[发明专利]光掩膜基板抛光磨盘检测修平系统在审
| 申请号： | 202211419694.3 | 申请日： | 2022-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN116100468A | 公开（公告）日： | 2023-05-12 |
| 发明（设计）人： | 李弋舟;李珍;邓辉 | 申请（专利权）人： | 长沙韶光芯材科技有限公司;湖南智信微电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/02 | 分类号： | B24B53/02;B24B53/017;B24B53/12 |
| 代理公司： | 长沙三七知识产权代理事务所(普通合伙) 43287 | 代理人： | 段红玉 |
| 地址： | 410129 湖*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光掩膜基板抛光磨盘检测修平系统，包括中心定位套、两个修平主体、定位组件、定位板、反射件和平衡板，所述中心定位套与修平主体之间设置活动缸，所述定位板位于中心定位套的球面槽内部，平衡板与定位板连接，所述修平主体包括修平板、接触板和定位套，所述接触板与定位套活动连接，接触板内部的感应板的位置与平衡板的位置对应，接触板的上端还设置若干接触杆，本发明中的光掩膜基板抛光磨盘检测修平系统可固定于抛光磨盘上，对抛光磨盘自动进行修平操作，并在修平过程中进行平面度检测，保证抛光磨盘的平面度，同时可实现了抛光面与抛光磨盘转轴的垂直定位。 | ||
| 搜索关键词： | 光掩膜基板 抛光 磨盘 检测 系统 | ||
【主权项】：
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