[发明专利]光掩膜基板抛光磨盘检测修平系统

说明书

本发明公开了一种光掩膜基板抛光磨盘检测修平系统，包括中心定位套、两个修平主体、定位组件、定位板、反射件和平衡板，所述中心定位套与修平主体之间设置活动缸，所述定位板位于中心定位套的球面槽内部，平衡板与定位板连接，所述修平主体包括修平板、接触板和定位套，所述接触板与定位套活动连接，接触板内部的感应板的位置与平衡板的位置对应，接触板的上端还设置若干接触杆，本发明中的光掩膜基板抛光磨盘检测修平系统可固定于抛光磨盘上，对抛光磨盘自动进行修平操作，并在修平过程中进行平面度检测，保证抛光磨盘的平面度，同时可实现了抛光面与抛光磨盘转轴的垂直定位。

技术领域

本发明涉及光掩膜版生产辅助设备技术领域，尤其涉及一种光掩膜基板抛光磨盘检测修平系统。

背景技术

石英玻璃以其高纯、高的光透过和低的热膨胀等一系列优良的理化性能而成为一种重要的基础材料。光掩膜版即由玻璃基板、铬层和光刻胶层构成。光掩膜版的玻璃基板需要后续覆膜光刻，因此对其表面的平整度要求较高。

光掩膜基板在制作过程中，需用通过抛光设备对玻璃基材的表面进行抛光，得到表面平整光滑的玻璃基材表面。抛光设备的抛光磨盘在使用过程中，其抛光磨盘的工作面会因长期使用而出现不平整的现象，此时需要对抛光磨盘进行修平处理，保证抛光磨盘高效稳定的工作。

在进行抛光磨盘修平处理时，一般是通过平面度达标的修平板对抛光磨盘进行打磨，在通过其他平面度检测装置进行测量，获得平整度合格的抛光磨盘面，过程较为繁琐，加工效率低。且此平整度仅可保证抛光磨盘本身的平整度，不考虑抛光磨盘是否与转轴垂直的情况，而偏心运动不利于抛光设备整体形成对玻璃基片的长期稳定的平面加工。

发明内容

本发明的目的是为了提高现有技术中车间对光掩膜基板平面抛光设备磨盘进行修平工作的效率，而提出的一种光掩膜基板抛光磨盘检测修平系统，用于提高修平效率，同时实现抛光磨盘与磨盘转轴垂直，有助于抛光设备整体形成对光掩膜基板长期稳定的平面加工。

为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：

光掩膜基板抛光磨盘检测修平系统包括中心定位套、两个修平主体、定位组件、定位板、反射件和平衡板。中心定位套和两个修平主体位定位组件上，所述中心定位套与修平主体之间通过活动缸连接。

进一步的，所述中心定位套内部设置球面槽，所述定位板位于所述球面槽内部，定位板的侧面与球面槽活动连接。修平主体内部设置平衡板，平衡板的底部通过调整缸与修平主体连接。所述定位板固定连接第一延伸杆，所述平衡板固定连接第二延伸杆，所述第一延伸杆包括与定位板平行的横向杆部和与第二延伸杆平行的纵向杆部，所述第二延伸杆的下端与所述第一延伸杆的横向杆部滑动连接。

进一步的，所述定位板上设置三个共圆、不共线的感应件，所述反射件包括两个第一反射点和第二反射点，所述反射件安装于抛光磨盘转轴并保持所述反射点位于抛光磨盘转轴的中心轴线上，所述感应件用于发射激光和接受激光，反射点用于反射激光。

在进行平衡板的定位时，首先定位板的三个感应件发出激光，反射件的反射点反射激光，当每个感应件接收第一反射点反射激光的时间相同，以及每个感应件接收第二反射点反射激光的时间相同时，则表示定位板与抛光磨盘转轴垂直。本处通过调整缸对平衡板的位置状态进行调节，平衡板通过两个延伸带动定位板同步位移，以定位板为基准实现平衡板相对抛光磨盘转轴垂直。

进一步的，所述修平主体包括修平板、接触板和定位套，所述修平板固定连接于接触板的上方，所述接触板的侧面与定位套的内壁滑动连接，所述定位套的内壁为圆弧面，接触板可相对定位套活动，用于调节接触板的位置，定位套设置用于接触板的定位件。

进一步的，所述平衡板位于所述接触板的下方，接触板的内部设置感应板，感应板为电极板，感应板的位置与平衡板的位置对应。优选的，所述平衡板包括金属板、玻璃板和电极板，所述金属板与接触板相对，所述感应板和电极板带相反电荷。