[发明专利]一种多晶硅副产低聚氯硅烷中六氯二硅烷的分离方法在审

专利信息
申请号: 202211413444.9 申请日: 2022-11-11
公开(公告)号: CN116102018A 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 张建树;赵文龙;张金利;郭瑞丽;彭文才 申请(专利权)人: 石河子大学
主分类号: C01B33/107 分类号: C01B33/107
代理公司: 新疆知产力专利代理事务所(特殊普通合伙) 65113 代理人: 马金红
地址: 832003 新疆维*** 国省代码: 新疆;65
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摘要: 发明提供一种多晶硅副产低聚氯硅烷中六氯二硅烷的分离方法,包括以下步骤:(1)将多晶硅副产低聚氯硅烷进行裂解反应,所述裂解反应是通入HCl气体与多晶硅副产低聚氯硅烷进行反应,反应温度为90℃‑120℃,将产生的气体冷凝,并收集裂解反应的剩余液体;所述多晶硅副产低聚氯硅烷包括六氯乙硅烷、六氯乙硅氧烷、五氯乙硅烷、四氯硅烷和三氯氢硅;(2)将裂解反应的剩余液体进行低温结晶,过滤分离出晶体。本发明所提供的裂解反应与结晶分离结合的方法,对设备要求低,制备过程简单,耗能低,对多晶硅二聚体中分离Si2Cl6效果促进明显。
搜索关键词: 一种 多晶 硅副产低聚氯 硅烷 中六氯二 分离 方法
【主权项】:
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