[发明专利]一种具有低红外发射率改性碳纳米管薄膜的制备方法在审
申请号: | 202211345481.0 | 申请日: | 2022-10-31 |
公开(公告)号: | CN115504459A | 公开(公告)日: | 2022-12-23 |
发明(设计)人: | 姬广斌;吴越;谭淑娟 | 申请(专利权)人: | 南京航空航天大学 |
主分类号: | C01B32/168 | 分类号: | C01B32/168 |
代理公司: | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 李倩 |
地址: | 210016 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种具有低红外发射率改性碳纳米管薄膜的制备方法,具体为:将碳纳米管薄膜先采用KOH溶液活化,活化后再在氩气气氛下热处理,得到改性后的碳纳米管薄膜。本发明制备的改性碳纳米管薄膜的红外发射率在3~5μm波段可低至0.473,同时在8~14μm波段可低至0.493,大幅降低了改性前碳纳米管薄膜的红外发射率,使其在多个波段均具有低的红外发射率。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 红外 发射 改性 纳米 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
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