[发明专利]一种虚线绘制方法及相关装置有效
| 申请号： | 202211325623.7 | 申请日： | 2022-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN115797496B | 公开（公告）日： | 2023-05-05 |
| 发明（设计）人： | 周涤非 | 申请（专利权）人： | 深圳市欧冶半导体有限公司 |
| 主分类号： | G06T11/20 | 分类号： | G06T11/20;G06T11/40 |
| 代理公司： | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人： | 温宏梅 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区粤海街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种虚线绘制方法及相关装置，方法包括将目标图像中的像素点沿预设遍历路径进行遍历；计算遍历到的像素点在目标虚线上的投影向量相对于目标虚线的投影比例；根据投影比例及目标虚线的线段数目确定像素点所处的线段部分；当线段部分为实线部分时，根据投影比例计算像素点与胶囊体的有向场距离，基于有向场距离确定像素点的不透明度；当线段部分为虚线部分时，将像素点的不透明度配置为0；基于不透明度对像素点进行渲染。本申请通过有向场距离确定像素点的不透明度，并基于不透明度对像素点进行渲染，使得图像绘制的绘制顺序与图像信号的处理顺序一致，降低了线段绘制的处理复杂度，提高了图像绘制的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 虚线 绘制 方法 相关 装置 | ||
【主权项】：
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