[发明专利]多离子源同步溅射镀膜装置在审
| 申请号： | 202211259441.4 | 申请日： | 2022-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN115572950A | 公开（公告）日： | 2023-01-06 |
| 发明（设计）人： | 陈蓉;张殷;刘智山;余桂龙 | 申请（专利权）人： | 苏州岚创科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/50 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 刘宁 |
| 地址： | 215004 江苏省苏州市虎*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种多离子源同步溅射镀膜装置，包括：腔体，包括相对设置的顶壁、底壁及连接顶壁和底壁的侧壁；基板，沿第一轴线可转动地设于顶壁，且具有朝向底壁的溅射面；多个靶材，架设于底壁上，且与基板相对设置；多个离子源，关于基板非对称地设于侧壁，离子源与靶材一一对应，离子源朝向靶材的第一端面与第一轴线呈设定锐角，且沉积密集区与溅射面相内切；多个离子源开始同步溅射，多束靶材溅射的材料沉积到基板的溅射面上行程多个沉积密集区，以能够在溅射面的边缘形成环状的沉积密集区，溅射面中心区域的厚度逐渐增大，进而能够较为便捷在基板的溅射面上形成从边缘到中心厚度均匀性较好的光学薄膜，提高了生产效率，能够实现大批量生产。 | ||
| 搜索关键词： | 离子源 同步 溅射 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州岚创科技有限公司，未经苏州岚创科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202211259441.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
