[发明专利]一种无掩膜光刻机光学系统及其工作方法在审

专利信息
申请号: 202211254223.1 申请日: 2022-10-13
公开(公告)号: CN115598933A 公开(公告)日: 2023-01-13
发明(设计)人: 赵清岩;于春令;陈振雷;岳立言 申请(专利权)人: 宁波大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 宁波甬享知识产权代理事务所(普通合伙) 33391 代理人: 祝强
地址: 315000 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供一种无掩膜光刻机光学系统及其工作方法,所述无掩膜光刻机光学系统,包括多个自右向左并排设置的光学引擎,所述光学引擎从上往下发射宽度为d的激光束,除最右侧的光学引擎外,其余每个光学引擎的下方均设有反光组件,所述反光组件用于将其上方的光学引擎发射的激光束反射至最右侧的光学引擎发射的激光束的左侧,且拼合成宽度为D的激光束;所述反光组件包括第一反射镜和第二反射镜,所述第一反射镜呈45°设置在光学引擎的正下方,所述第二反射镜位于第一反射镜的右侧呈45°设置且与第一反射镜相互平行,本发明能够减少光学引擎的无效扫描路径,扫描趟数(路径总长)有效减少,从而大大提高光刻机的产能。
搜索关键词: 一种 无掩膜 光刻 光学系统 及其 工作 方法
【主权项】:
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