[发明专利]一种暗场反射紫外光学显微成像方法和系统在审

专利信息
申请号: 202211224969.8 申请日: 2022-10-09
公开(公告)号: CN115656120A 公开(公告)日: 2023-01-31
发明(设计)人: 叶世蔚;李慧;郑炜 申请(专利权)人: 中国科学院深圳先进技术研究院
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64
代理公司: 深圳市壹品专利代理事务所(普通合伙) 44356 代理人: 周婷;江文鑫
地址: 518055 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及快速病理检测的技术领域,公开了一种暗场反射紫外光学显微成像方法,包括以下步骤:S10:获取组织样品;S20:将组织样品放置在载物台上,由紫外光源产生的紫外光斜入射至组织样品上;利用紫外光学系统收集来自组织样品的紫外反射光,并通过组织样品的浅表层漫反射光的亮信号和细胞核吸收紫外入射光的暗信号来获得紫外暗场反射图像。基于紫外光的暗场照明,在消除镜面反射光和散乱光干扰的情况下,利用细胞核吸收紫外光产生的暗信号和生物组织浅表层漫反射产生的亮信号来提供图像对比度。该方法无需荧光染色,样品也无需特殊切片处理,能快速、准确、高信背比地提供病理组织成像结果,为术中切缘评估提供了快速、准确的参考依据。
搜索关键词: 一种 暗场 反射 紫外 光学 显微 成像 方法 系统
【主权项】:
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