[发明专利]一种多参考点高精度掩膜版贴片装置在审
申请号: | 202211157642.3 | 申请日: | 2022-09-22 |
公开(公告)号: | CN115480444A | 公开(公告)日: | 2022-12-16 |
发明(设计)人: | 张津 | 申请(专利权)人: | 深圳清溢光电股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/68 | 分类号: | G03F1/68 |
代理公司: | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人: | 陈炳成 |
地址: | 518000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及掩膜版刻划技术领域,提出了一种多参考点高精度掩膜版贴片装置,包括机架,设于机架上的第一调整组件、支柱和第一推顶件,设于第一调整组件上的摄像机,设于支柱顶端的第二调整组件,设于第二调整组件上的压板,设于第一推顶件顶端的支撑台,设于支撑台上的第三调整组件,第三调整组件位于掩膜版的下方,掩膜版位于压板和第二调整组件之间,贴片位于第三调整组件和掩膜版之间,压板和掩膜版实现在XZ方向的移动和绕Y轴的转动,贴片借助第三调整组件实现XYZ方向的微调,摄像机为两个且用于定位掩膜版的位置,贴片借助第三调整组件贴合在掩膜版上。通过上述技术方案,解决了相关技术中设备贴合精度不高的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 参考 高精度 掩膜版贴片 装置 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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