[发明专利]一种绘制光刻工艺窗口的方法在审
| 申请号： | 202211153950.9 | 申请日： | 2022-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN115437225A | 公开（公告）日： | 2022-12-06 |
| 发明（设计）人： | 董立松;韦亚一 | 申请（专利权）人： | 南京诚芯集成电路技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 南京苏博知识产权代理事务所(普通合伙) 32411 | 代理人： | 章雅琴 |
| 地址： | 210000 江苏省南京市浦口区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻工艺开发技术领域，具体涉及一种绘制光刻工艺窗口的方法，获取特定特征尺寸图形在不同离焦量和不同曝光剂量下的曝光结果及约束条件；基于所述曝光结果和所述约束条件绘制两条泊松曲线；判断两条所述泊松曲线和所述泊松曲线的首尾点构成闭合区域的凹凸性，得到判断结果；基于所述判断结果根据凸优化的原理描绘新闭合区域中的最大面积椭圆，得到工艺窗口，该方法利用凸优化快速高效的特点，将不规则的闭合区域分割为凸集的方式实现了工艺窗口的快速绘制，以0.11s的速度绘制了椭圆工艺窗口，且无需在任何位置指定椭圆搜索的起点，达到了快速绘制工艺窗口的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 绘制 光刻 工艺 窗口 方法 | ||
【主权项】：
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