[发明专利]一种半球形工件高均匀性镀膜装置及方法在审

专利信息
申请号: 202211146558.1 申请日: 2022-09-20
公开(公告)号: CN115572954A 公开(公告)日: 2023-01-06
发明(设计)人: 白峻杰;李钱陶;赵明强 申请(专利权)人: 华中光电技术研究所(中国船舶重工集团公司第七一七研究所)
主分类号: C23C14/50 分类号: C23C14/50;C23C14/35;C23C14/54
代理公司: 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242 代理人: 张文静
地址: 430000 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及异形工件镀膜领域,具体涉及一种半球形工件高均匀性镀膜装置及方法。本发明创新性的采用在镀膜过程中驱动镀膜机靶枪的方式,使靶枪在镀膜过程中调整倾斜角度,进而提高半球形工件表面镀膜均匀性;另外通过一种半球形镀膜均匀性测试工装,完成多个不同倾斜角度下靶枪镀膜厚度和均匀性的标定,从而确定不同倾斜角度下靶枪对半球形工件各点的镀膜厚度,进而计算靶枪在整个半球形工件镀膜过程中各个角度下的时间占比,从而达到大幅度优化半球形工件镀膜均匀性的目的。该种方法经实测,半球形工件镀膜均匀性优于±2%。
搜索关键词: 一种 半球形 工件 均匀 镀膜 装置 方法
【主权项】:
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