[发明专利]一种多自由度高稳定性光刻掩膜版基版抛光翻转臂在审
| 申请号： | 202211096976.4 | 申请日： | 2022-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN115194649A | 公开（公告）日： | 2022-10-18 |
| 发明（设计）人： | 杨伟;伍玮;蒋为波 | 申请（专利权）人： | 成都中科卓尔智能科技集团有限公司 |
| 主分类号： | B24B41/047 | 分类号： | B24B41/047;B24B41/00;B24B55/00 |
| 代理公司： | 北京市领专知识产权代理有限公司 11590 | 代理人： | 卢洋 |
| 地址： | 610095 四川省成都市中国（四川）自*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多自由度高稳定性光刻掩膜版基版抛光翻转臂，涉及光刻掩膜版加工技术领域。本发明包括旋转座和臂杆，所述臂杆一端与旋转座铰接，所述臂杆上固定有上磨盘。所述臂杆可以相对于铰接处上下翻转，在臂杆上下翻转时，也会带动所述上磨盘上下移动。本发明在对光刻掩膜版进行打磨时，增加了打磨盘的稳定性，降低了打磨盘的振动幅度，从而提高了光刻掩膜版的加工精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 自由度 稳定性 光刻 掩膜版基版 抛光 翻转 | ||
【主权项】：
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