[发明专利]一种中红外抗激光损伤消偏振增透膜在审
| 申请号： | 202211091999.6 | 申请日： | 2022-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN115267952A | 公开（公告）日： | 2022-11-01 |
| 发明（设计）人： | 杨隽锋;李林;曾丽娜;李再金;陈浩;乔忠良;曲轶;刘国军 | 申请（专利权）人： | 海南师范大学 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 571158 *** | 国省代码： | 海南;46 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： |
本发明公开了一种中红外抗激光损伤消偏振增透膜的设计与制备方法，包括膜系设计，基底清洗，基底加热，膜系镀制。基底材料为折射率1.4～2.0的氧化铝或红外硫系玻璃，低折射率镀膜材料LaF |
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| 搜索关键词： | 一种 红外 激光 损伤 偏振 增透膜 | ||
【主权项】：
暂无信息
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