[发明专利]一种下凹纹理珍珠釉面及其制备工艺、陶瓷和应用在审
| 申请号： | 202211089490.8 | 申请日： | 2022-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN116161986A | 公开（公告）日： | 2023-05-26 |
| 发明（设计）人： | 席尚华;陈迪喜;殷少泽;熊勋旺;陈健;李清莲 | 申请（专利权）人： | 佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;丰城市东鹏陶瓷有限公司;佛山市东鹏陶瓷发展有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/89 | 分类号： | C04B41/89;C04B41/86;C03C8/00;B28B11/00;B28B11/04 |
| 代理公司： | 佛山市禾才知识产权代理有限公司 44379 | 代理人： | 何慧敏 |
| 地址： | 528031 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种下凹纹理珍珠釉面及其制备工艺、陶瓷和应用，制备工艺，包括以下步骤：(1)在坯体布施底釉；(2)在底釉布施哑光面釉，制得哑光面层；(3)在哑光面层打印墨水；(4)在哑光面层布施珍珠保护釉，干燥后烧成；本方案其在特定配方的哑光面釉形成了哑光面层，并在哑光面层打印墨水，通过颜色墨水和精雕墨水安排在同一台喷墨机的不同通道，珍珠保护釉与精雕墨水有机结合，可以在釉面上形成具有珍珠色的下凹清晰纹理，观感和触感同时兼具；下凹纹理珍珠釉面，由上述的制备工艺制得；陶瓷，由坯体设有上述的下凹纹理珍珠釉面；由此，本方案解决了现有技术中普通柔光面釉的釉面会容易出现密集桔皮，且下凹部分立体手感效果差的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纹理 珍珠 釉面 及其 制备 工艺 陶瓷 应用 | ||
【主权项】：
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