[发明专利]基于二维铁电材料的忆阻神经突触器件及调控方法在审

专利信息
申请号: 202211076185.5 申请日: 2022-09-05
公开(公告)号: CN115394920A 公开(公告)日: 2022-11-25
发明(设计)人: 李林军;朱焕峰;张天 申请(专利权)人: 浙江大学嘉兴研究院;浙江大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;G06N3/063
代理公司: 杭州中成专利事务所有限公司 33212 代理人: 李亦慈;唐银益
地址: 314031 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了基于二维铁电材料的忆阻神经突触器件及调控方法,器件由下至上依次包括衬底1、底电极2、功能层3、顶电极4。该功能层采用具有室温的面外铁电性的单晶二维原子晶体CuInP2S6。利用二维CuInP2S6的室温铁电性及高速的紫外光响应特性,该忆阻神经突触器件同时具有电激励和光激励的特性,且制作成本低、工艺简单,可同时用于深度学习、记忆神经的模拟和视觉系统的模拟,使得忆阻神经突触器件能够完成更加复杂的功能。
搜索关键词: 基于 二维 材料 神经 突触 器件 调控 方法
【主权项】:
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