[发明专利]一种无边缘缺陷的光刻掩模优化方法及系统

摘要

本发明提供一种无边缘缺陷的光刻掩模优化方法及系统，通过奇切分和偶切分两套网格错位切分获得切片，并在单个迭代过程中依次进行奇切分和偶切分所得切片掩模图形一次修正，循环执行迭代过程，直至所有切片满足误差要求，以此来消除边界效应影响，两套切分网格包含不同的分区组成，其中奇切分所得切片ROI内部包含了偶切分所得切片ROI的边界，偶切分所得切片ROI内部包含了奇切分所得ROI的边界，这样可以将奇切分得到的切片ROI边界图形放在偶切分切片ROI内部进行准确优化，同理，偶切分得到的切片ROI边界图形也可以在奇切分切片ROI内部进行准确优化，避免了传统掩模优化方法单次切分掩模版图带来的边缘缺陷问题。