[发明专利]光扫描式激光干涉直写设备及直写方法在审
| 申请号： | 202211035218.1 | 申请日： | 2022-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN115268236A | 公开（公告）日： | 2022-11-01 |
| 发明（设计）人： | 吴东岷;余冠群;曾中明;张宝顺;许玥;苑文强 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 苏州三英知识产权代理有限公司 32412 | 代理人： | 陆颖 |
| 地址： | 215123 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光扫描式激光干涉直写设备以及直写方法，直写设备包括光学扫描头、光路系统以及载物台。光学扫描头用以提供能在一定平面范围内移动的扫描光束；光路系统至少包括沿扫描光束的光路方向依次设置的分光装置以及成像组件，分光装置用以将扫描光束衍射分光以形成至少两束相干的激光光束，成像组件用以将激光光束重新聚焦并形成干涉条纹，以在曝光对象上进行激光干涉直写；载物台可被控制的始终保持于成像组件的像平面上，且能在所述像平面内移动。本发明的光扫描式激光干涉直写设备，利用光学扫描头扫描速度快，控制精度高的特点，结合分光装置，可以大大缩减点阵干涉图案的直写时间。 | ||
| 搜索关键词： | 扫描 激光 干涉 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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