[发明专利]可见光激光直写旋涂玻璃相位移掩膜的方法在审
| 申请号： | 202210970018.9 | 申请日： | 2022-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN115291469A | 公开（公告）日： | 2022-11-04 |
| 发明（设计）人： | 陈维恕;何丹丹;陈梓铭 | 申请（专利权）人： | 夸泰克（广州）新材料有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F1/26 | 分类号： | G03F1/26;G03F1/70;G03F1/80;G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州科沃园专利代理有限公司 44416 | 代理人： | 张帅 |
| 地址： | 510530 广东省广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种可见光激光直写旋涂玻璃相位移掩膜的方法，包括：提供基底层以及位于基底层表面的相移膜层，在相移膜层的表面形成铬膜层，在铬膜层的表面形成光刻胶层；通过激光直写在光刻胶层上形成间隔设置的第一开口，在第一开口处对铬膜层进行蚀刻并形成第二开口，在第二开口上再形成光刻胶层；通过激光直写在第二光刻胶层上形成第三开口，对第三开口处的铬膜层进行蚀刻；对光刻胶层进行清洗并氧化去胶；对相移膜层进行激光直写。本发明的激光直写技术涵盖了多种可见光激光，且经由本发明专利技术生产的旋涂玻璃相位移掩膜具有趋向193nm短波长时的强吸收能力，可做为ArF等多类光刻术的材料使用，本发明专利技术工艺简单，具有极强的实用性。 | ||
| 搜索关键词： | 可见光 激光 直写旋涂 玻璃 相位 移掩膜 方法 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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