[发明专利]一种退镀开发用的铬蚀刻液及其应用在审
| 申请号： | 202210958473.7 | 申请日： | 2022-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN115976519A | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 唐邦文;苏晓明 | 申请（专利权）人： | 武汉梵佳鑫科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/38 | 分类号： | C23F1/38 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区关东园路*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种退镀开发用的铬蚀刻液，通过将退镀活性成分、金属化合物、长链化合物、分散剂、助剂、去离子水混合制备得到退镀开发用的铬蚀刻液，该蚀刻液能够有效将铬镀层软化、溶解，而且能够渗入到镀层与工件之间的细微孔隙中，进一步促进镀层与工件分离，且不会影响对其的蚀刻作用，同时该蚀刻液对工件的蚀刻精度和蚀刻均匀性控制有了显著提升，所得产品的效果佳。而且对底材物质的腐蚀性极小，而且加快了蚀刻速度，在蚀刻过程中不会出现沸腾飞溅、剧烈放热的现象，而且蚀刻液的稳定性好，有效性期限长，能够广泛用于锈钢、PET、AC、PC、玻璃等多种底材镀膜层在黄光制程工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 开发 蚀刻 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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