[发明专利]一种黄光工艺曝光用的掩膜版修复方法在审
申请号: | 202210930646.4 | 申请日: | 2022-08-04 |
公开(公告)号: | CN115308986A | 公开(公告)日: | 2022-11-08 |
发明(设计)人: | 谢才兴;饶奋剑 | 申请(专利权)人: | 江苏软讯科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/72 | 分类号: | G03F1/72 |
代理公司: | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 | 代理人: | 马晓敏 |
地址: | 213017 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种黄光工艺曝光用的掩膜版修复方法,包括如下步骤:对掩膜版定期检测缺陷情况并定位缺陷位置,根据缺陷的大小状况,采用不同规格的金属工具针蘸取阻光剂填充至对应缺陷位置,观察平整度和阻光性,根据要求调整,填充完全后进行固化处理;然后置于药剂中进行超声处理,再采用去离子水常温清洗,干燥后得到黄光工艺曝光用的修复后掩膜版;其中所述药剂为含有碱性化合物和二乙二醇丁醚的水溶液;以上修复方法还包括对所述修复后掩膜版进行防粘处理:将修复后掩模版需要与光刻材料接触的一面贴合防粘膜后进行加压脱泡处理。本发明修复方法能够提高产品曝光良率,且掩膜版不与材料发生粘连,降低制造企业的成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 工艺 曝光 掩膜版 修复 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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