[发明专利]一种BGA/LGA器件背面EMMI失效分析方法在审

专利信息
申请号: 202210869391.5 申请日: 2022-07-21
公开(公告)号: CN115902597A 公开(公告)日: 2023-04-04
发明(设计)人: 高立;杨迪;李旭;周钦沅;吕贤亮;贺峤;刘晨 申请(专利权)人: 中国电子技术标准化研究院
主分类号: G01R31/307 分类号: G01R31/307;G01R31/311;G01R31/28;G01N23/04
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 王兆波
地址: 100011 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种BGA/LGA器件背面EMMI失效分析方法,本方法对利用研磨技术得到的BGA/LGA器件基板版图进行分析和采用X射线技术,确定绑定线和器件焊球的一一对应关系,为器件背面EMMI提供准确的电性连接,实现BGA/LGA器件背面EMMI分析。在进行集成电路背面EMMI时,首先要实现正确地电性连接,因IO端口众多且绑定线先通过基板重新布线,再和外部焊点相连。本发明能够快速、简便地获得BGA/LGA器件绑定线和外部焊点的一一对应关系,从而给BGA/LGA器件路背面EMMI提供准确的电性连接,实现BGA/LGA器件的背面EMMI失效分析,扩大集成电路背面EMMI失效分析的适用性,减少集成电路背面EMMI的局限性。
搜索关键词: 一种 bga lga 器件 背面 emmi 失效 分析 方法
【主权项】:
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