[发明专利]一种基于非连续平面的金属空气桥制备方法在审
| 申请号： | 202210846223.4 | 申请日： | 2022-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN115215288A | 公开（公告）日： | 2022-10-21 |
| 发明（设计）人： | 王亮;蒋凯;刘英见;罗丹洋;江致远 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B81B3/00 |
| 代理公司： | 合肥金安专利事务所(普通合伙企业) 34114 | 代理人： | 金惠贞 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种基于非连续平面的金属空气桥制备方法，属于半导体加工工艺技术领域。被加工芯片的衬底上设有两种高度的两个以上的非连续台面，在非连续台面上制作金属空气桥的操作步骤如下：首先在具有非连续平面的衬底上匀涂第一光刻胶层，通过光刻留下覆盖两个非连续平面的光刻胶牺牲层；在玻璃化温度环境中热熔，实现对光刻胶牺牲层的形貌控制；在牺牲层上制作保护层和第二光刻胶层；采用刻蚀工艺去除需要制备金属空气桥位置的保护层；在镀膜设备中沉积金属，去除包括牺牲层在内的所有的光刻胶，实现非连续台面之间的金属空气桥互联。本发明的制备方法采用非常成熟的半导体工艺，实现了简单快速、低成本完成的非连续平面上金属空气桥的制作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 连续 平面 金属 空气 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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