[发明专利]一种用于轴承套圈外滚道抛光的抛光系统、自适应抛光装置及抛光方法在审

专利信息
申请号: 202210833291.7 申请日: 2022-07-14
公开(公告)号: CN115213792A 公开(公告)日: 2022-10-21
发明(设计)人: 王宣平;付源政;高航 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;B24B19/06;B24B41/00;B24B57/00;B24B41/06;B24B47/12
代理公司: 大连东方专利代理有限责任公司 21212 代理人: 修睿;李洪福
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供一种用于轴承套圈外滚道抛光的抛光系统、自适应抛光装置及抛光方法。本发明包括主轴旋转机构、供料机构、抛光头和顶紧机构,所述主轴旋转机构用于安装待抛光轴承套圈,所述供料机构的输出端与抛光头相连,所述供料机构内部存储高压柔性磨料介质,所述抛光头与顶紧机构相连,所述抛光头为柔性抛光头,其能够在顶紧机构施加压力下完成与工件的贴合和夹紧。本发明通过高压柔性磨料与柔性抛光头作用于套圈滚道表面,不同于传统固结磨料抛光加工,此时磨料与滚道表面接触为面接触,接触面积更大,效率相比于线接触大大提高,且由于磨料与工件为柔性接触,故可达到较低的表面粗糙度。
搜索关键词: 一种 用于 轴承 圈外 滚道 抛光 系统 自适应 装置 方法
【主权项】:
暂无信息
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