[发明专利]一种曝光控制方法、装置、设备及介质在审
| 申请号： | 202210815412.5 | 申请日： | 2022-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN115174819A | 公开（公告）日： | 2022-10-11 |
| 发明（设计）人： | 廖木;陈强;黄坎;陈俊 | 申请（专利权）人： | 重庆紫光华山智安科技有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/235 | 分类号： | H04N5/235;H04N5/04 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 李铁 |
| 地址： | 400700 重庆市*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本申请提供一种曝光控制方法、装置、设备及介质，其中，该方法包括：获取图像传感器的感光性能信息和行同步周期，其中，感光性能信息用于表征在预设环境下图像传感器的最佳曝光时间，行同步周期包括表征图像传感器曝光时间的无效行；根据最佳曝光时间与行同步周期确定无效行中待拆分的目标无效行以及目标无效行的拆分数量；根据拆分数量对待拆分的目标无效行进行分割，得到小行集合；通过小行集合进行曝光处理，得到亮度数据。通过该方法，可以提升曝光控制的精确度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 控制 方法 装置 设备 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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