[发明专利]一种冲击试验残样用于光谱分析的制样方法在审

专利信息
申请号: 202210798004.3 申请日: 2022-07-06
公开(公告)号: CN115078037A 公开(公告)日: 2022-09-20
发明(设计)人: 赵永锋;刘宜湘;祖光曼;石国洪;蒲雪芬;刘青青;田刚 申请(专利权)人: 重庆钢铁股份有限公司
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人: 杨丽芹
地址: 401220 重*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明属于金属试样检测技术领域,涉及一种冲击试验残样用于光谱分析的制样方法,当冲击试验后的残样尺寸小于光谱分析仪的激发台孔径时,采用压力机将残样压制成宽度大于激发台孔径的扁试样,并在压制面上焊接手柄,通过握持手柄进行待检测面的打磨。本发明中的采用压制扁试样的方式,克服了冲击试样残样尺寸小不能覆盖光谱分析仪的激发台孔径的问题,同时通过焊接手柄,便于小尺寸试样的打磨,使采用冲击试验残样进行光谱分析得以实现,对检测技术提升、产品工艺研究和质量改进具有实际意义。
搜索关键词: 一种 冲击 试验 用于 光谱分析 方法
【主权项】:
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