[发明专利]沟槽型发射极载流子注入控制快恢复二极管在审

专利信息
申请号: 202210778209.5 申请日: 2022-06-30
公开(公告)号: CN115101598A 公开(公告)日: 2022-09-23
发明(设计)人: 李磊;许生根;杨晓鸾;孔凡标;李哲锋 申请(专利权)人: 江苏中科君芯科技有限公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/40
代理公司: 苏州国诚专利代理有限公司 32293 代理人: 韩凤
地址: 214135 江苏省无锡市新吴区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种沟槽型发射极载流子注入控制快恢复二极管。其包括N型衬底以及阴极电极;在所述N型衬底的正面制备沟槽型发射极,沟槽型发射极包括N型埋层、位于所述N型埋层上的P型层、位于所述P型层上的发射极金属层以及若干发射极沟槽,其中,对任一发射极沟槽,所述发射极沟槽贯穿P型层以及N型埋层,发射极沟槽的槽底位于N型埋层的下方,所述发射极沟槽的内壁覆盖沟槽绝缘氧化层,在覆盖有沟槽绝缘氧化层的发射极沟槽内填充有发射极导电多晶硅;所述发射极金属层与P型层以及发射极沟槽内的发射极导电多晶硅欧姆接触。本发明具有较快的反向恢复时间,动态损耗小,软度好,高温漏电小,可靠性高,温度系数小,提升反向阻断能力。
搜索关键词: 沟槽 发射极 载流子 注入 控制 恢复 二极管
【主权项】:
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