[发明专利]一种电容线圈靶制造方法在审
| 申请号： | 202210763617.3 | 申请日： | 2022-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN115041926A | 公开（公告）日： | 2022-09-13 |
| 发明（设计）人： | 谢军;刘峰;张海军;何智兵;蒋柏斌;魏胜;易泰民;高莎莎;杨洪;梁榉曦;袁光辉 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | B23P15/00 | 分类号： | B23P15/00;B23H5/00;B23K26/00 |
| 代理公司： | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人： | 冯玲玲 |
| 地址： | 621999*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种电容线圈靶制造方法，该方法首先通过铣削加工下料，加工穿丝孔，用于后续工序慢走丝线切割加工穿丝使用；接着采用慢走丝线切割进行线圈外形轮廓切割；之后采用特种加工技术对线圈剩余部分进行切割，直到线圈外形及尺寸满足设计要求，同时保留线圈与夹持端连接；最后通过飞秒激光加工切断线圈与夹持端的连接部分，形成完整的线圈靶。本发明针对薄壁、易变形零件，采用块体材料，选择慢走丝线切割、电火花加工、激光加工等无宏观切削力的特种加工方法，通过去除材料加工，获得整体结构薄壁线圈靶。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电容 线圈 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心，未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210763617.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种边坡预应力锚索框架支护结构
- 下一篇：一种米曲霉M01及其应用
