[发明专利]通过扭矩控制实现精细研磨抛光的装置和方法在审
| 申请号： | 202210751977.1 | 申请日： | 2022-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN115256089A | 公开（公告）日： | 2022-11-01 |
| 发明（设计）人： | 李青;李赫然;甄喜;胡恒广;闫冬成;张文亮;成彦华;赵列成 | 申请（专利权）人： | 河北光兴半导体技术有限公司;北京远大信达科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B9/00 | 分类号： | B24B9/00;B24B9/10;B24B29/02;B24B47/20;B24B51/00 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 肖冰滨 |
| 地址： | 050035 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明实施例提供一种研磨抛光装置，属于机械加工技术领域。所述研磨抛光装置包括：磨轮旋转电机，纵横双向进给平台，研磨轮，安装于磨轮旋转电机上，用于研磨抛光待处理器件的边部；纵横双向进给平台伺服电机，用于带动纵横双向进给平台；力矩进给轴，能够前后运动，用于使研磨轮向待处理器件施加固定扭矩值，以控制待处理器件每个部位的磨削量；力矩进给轴伺服电机，执行扭矩控制模式，用于带动力矩进给轴前后运动且保持运动中的平衡；控制器，用于通过预定程序控制力矩进给轴伺服电机和/或纵横双向进给平台伺服电机，以使得纵横双向进给平台带动研磨轮以预定轨迹研磨待处理器件，且使得力矩进给轴伺服电机执行扭矩控制。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 扭矩 控制 实现 精细 研磨 抛光 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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