[发明专利]提高OPC运算效率的方法在审
| 申请号： | 202210745551.5 | 申请日： | 2022-06-27 |
| 公开（公告）号： | CN114995050A | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 王丹;翟翠红;于世瑞 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 张亚静 |
| 地址： | 201314*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种提高OPC运算效率的方法，包括：将整个OPC运算流程按照运算顺序分为若干个模块；每个模块依次使用对应的OPC程序进行运算，并且在运算时为每一个模块分配OPC软件和OPC硬件资源。本发明将OPC运算流程分为多个模块，多个模块依次运行，每个模块采用对应的OPC程序进行运算，而不是采用传统方式将所有模块写成一个OPC程序，减少了OPC运算的时间，提高了OPC运算的效率，节约了OPC软件和OPC硬件资源，且能随时查找到单个模块的运行是否出现不良，方便了及时查找到不良的地方，提高了OPC调试分析效率。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 opc 运算 效率 方法 | ||
【主权项】：
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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