[发明专利]提高OPC运算效率的方法在审
申请号: | 202210745551.5 | 申请日: | 2022-06-27 |
公开(公告)号: | CN114995050A | 公开(公告)日: | 2022-09-02 |
发明(设计)人: | 王丹;翟翠红;于世瑞 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36 |
代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 张亚静 |
地址: | 201314*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 提高 opc 运算 效率 方法 | ||
本发明提供了一种提高OPC运算效率的方法,包括:将整个OPC运算流程按照运算顺序分为若干个模块;每个模块依次使用对应的OPC程序进行运算,并且在运算时为每一个模块分配OPC软件和OPC硬件资源。本发明将OPC运算流程分为多个模块,多个模块依次运行,每个模块采用对应的OPC程序进行运算,而不是采用传统方式将所有模块写成一个OPC程序,减少了OPC运算的时间,提高了OPC运算的效率,节约了OPC软件和OPC硬件资源,且能随时查找到单个模块的运行是否出现不良,方便了及时查找到不良的地方,提高了OPC调试分析效率。
技术领域
本发明涉及半导体技术领域,尤其是涉及一种提高OPC运算效率的方法。
背景技术
在光刻工艺中,掩模版即光罩(Mask)上的版图对应的图形结构会通过曝光系统投影到光刻胶中并在光刻胶中形成对应的图形结构,但是由于曝光过程中的光学原因或者光刻胶的化学反应的原因,在光刻胶中形成的图形结构和掩模版上的图形结构存在偏差,这种偏差则需要通过OPC修正预先对掩模版上的图形结构进行修改,采用经过OPC修正的掩模版进行曝光时,在光刻胶中形成的图形结构则会和设计的图形结构相符,并符合工艺生产要求。
OPC修正时会首先进行OPC运算,OPC运算会使用到OPC资源,OPC资源分为OPC软件和OPC硬件两部分。OPC软件指OPC运算中会用到的nmDRC软件(功能:版图规则检查)、nmDRC-H软件(功能:基于层级的版图规则检查)、nmopc软件(功能:高精度OPC修正)和nmsraf软件(功能:辅助曝光图形)。OPC硬件指OPC运算中会用到CPU core(刀片服务器)。
现有技术中,OPC运算时,将OPC运算流程写成一个脚本,脚本提交后仿真时会全程占用所有OPC软件和OPC硬件,即从脚本开始到脚本结束的每一个时间段都会占用到所有OPC软件,并且,由于每个OPC软件需要分配一定数量的OPC硬件,全程占用所有OPC软件会间接占用大量的OPC硬件,导致大量的OPC硬件浪费,且如果OPC运算结果后出现不良,不能找出具体是哪个程序出现了不良,OPC调试分析效率低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种提高OPC运算效率的方法,可以将OPC运算流程分为多个模块,多个模块依次运行,每个模块采用对应的OPC软件进行运算,而不是占用全部的OPC软件,减少OPC运算的时间,提高OPC软件和OPC运算的效率,可以节约OPC硬件资源,且能随时查找到单个模块的运行是否出现不良,方便及时查找到不良的地方,提高OPC调试分析效率。
为了达到上述目的,本发明提供了一种提高OPC运算效率的方法,包括:
将整个OPC运算流程按照运算顺序分为若干个模块;以及
每个所述模块依次使用对应的OPC软件进行运算,并且在运算时为每一个所述模块分配OPC软件和OPC硬件资源。
可选的,在所述的提高OPC运算效率的方法中,每一个模块使用对应的OPC软件和OPC硬件进行运算。
可选的,在所述的提高OPC运算效率的方法中,将OPC运算流程分为目标重定模块、目标重定检查模块、仿真修正模块、仿真验证自检模块和掩模板规则检查模块,所述目标重定模块、目标重定检查模块、仿真修正模块、仿真验证自检模块和掩模板规则检查模块依次使用对应的OPC软件和OPC硬件进行运算。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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