[发明专利]等离子清洗装置在审
| 申请号： | 202210652966.8 | 申请日： | 2022-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN115156195A | 公开（公告）日： | 2022-10-11 |
| 发明（设计）人： | 叶贤斌;李文强;杨建新;朱霆;盛辉;周学慧;张凯 | 申请（专利权）人： | 深圳泰德半导体装备有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B08B13/00 |
| 代理公司： | 深圳市恒程创新知识产权代理有限公司 44542 | 代理人： | 钟永翠 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区粤海*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种等离子清洗装置，其中，等离子清洗装置包括托板、多个载物架以及盖体，载物架连接在托板上，载物架设有安装工位，安装工位用于装夹料片；盖体盖设于托板上，并与托板形成腔体，盖体的一侧壁设有多个进气孔，进气孔用于向腔体通入气体；其中，多个载物架间隔排列，多个进气孔沿载物架的排列方向排布，每一进气孔朝向一安装工位设置。本发明技术方案能够提高同一批料片清洗的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 清洗 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳泰德半导体装备有限公司，未经深圳泰德半导体装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210652966.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
