[发明专利]等离子清洗装置

权利要求书

1.一种等离子清洗装置，其特征在于，所述等离子清洗装置包括：

托板；

多个载物架，所述载物架连接在所述托板上，所述载物架设有安装工位，所述安装工位用于装夹料片；以及

盖体，所述盖体盖设于所述托板上，并与所述托板形成腔体，所述盖体的一侧壁设有多个进气孔，所述进气孔用于向所述腔体通入气体；

其中，多个所述载物架间隔排列，多个所述进气孔沿所述载物架的排列方向排布，每一所述进气孔朝向一所述安装工位设置。

2.如权利要求1所述的等离子清洗装置，其特征在于，所述载物架包括两相对设置的装夹台，两所述装夹台分别安装在所述托板上，定义垂直于两所述装夹台的所在平面，且穿过两所述装夹台之间连线的中点的平面为中垂面，所述进气孔位于所述中垂面上，两所述装夹台之间形成所述安装工位，所述装夹台用于夹持所述料片的侧边。

3.如权利要求2所述的等离子清洗装置，其特征在于，所述进气孔位于所述安装工位的上方。

4.如权利要求1所述的等离子清洗装置，其特征在于，所述侧壁还设有输气孔，所述盖体还包括若干气道管路，若干所述气道管路均嵌设在所述侧壁中，每一所述气道管路的一端与一所述进气孔连通设置，另一端与所述输气孔连通，若干所述气道管路的长度相同。

5.如权利要求4所述的等离子清洗装置，其特征在于，所述侧壁包括：

第一层壁板；和

第二层壁板，所述第二层壁板设有所述输气孔，所述第二层壁板位于所述第一层壁板的内侧，且面向所述第一层壁板开设有凹槽，所述凹槽的槽底设有若干贯通至所述第二层壁板背离所述第一层壁板表面的所述进气孔，以连通所述凹槽和所述腔体；

其中，所述第一层壁板盖设于所述第二层壁板上，用于封盖所述凹槽，以形成若干所述气道管路。

6.如权利要求5所述的等离子清洗装置，其特征在于，所述凹槽包括：

主槽道，所述主槽道的一端连通所述输气孔；

两直槽，两所述直槽沿与所述侧壁的长度方向垂直的中心线对称设置，所述进气孔开设于所述直槽的端部；以及

两支槽道，每一所述支槽道的一端连通所述直槽、另一端连通所述主槽道远离所述输气孔的一端，两所述支槽道的长度相等。

7.如权利要求6所述的等离子清洗装置，其特征在于，所述直槽的中间部位连通于所述支槽道。

8.如权利要求1所述的等离子清洗装置，其特征在于，朝向于所述进气孔的侧壁设有多个出气孔，多个所述出气孔沿所述载物架的排列方向排布，所述出气孔用于抽出所述腔体内的气体。

9.如权利要求8所述的等离子清洗装置，其特征在于，所述进气孔设有四个；

所述出气孔设有两个；

其中，每一所述出气孔位于两相邻的所述进气孔之间连线的中垂线上。

10.如权利要求1所述的等离子清洗装置，其特征在于，所述盖体包括：

盖主体，所述盖主体盖设于所述托板上，并与所述托板形成所述腔体，所述盖主体的一侧壁设有多个所述进气孔，所述盖主体用于电性连接接地线；

绝缘件，所述绝缘件与所述盖主体固定连接，并位于所述腔体内；以及

阴极板，所述阴极板连接于所述绝缘件，并与所述腔体的壁面间隔设置，所述阴极板用于电性连接阴极。