[发明专利]一种两性离子聚合物修饰的纳米片的制备方法及其应用

摘要

本发明中公开了一种两性离子聚合物修饰的纳米片的制备方法。本发明同时公开了上述制备方法制备得到的两性离子聚合物修饰的纳米片MoS2@PDA@PSBMA及其在骨关节炎治疗中的应用。本发明利用超声法制备MoS2纳米片，然后对其进行多巴胺修饰；通过RAFT法制备嵌段PSBMA‑b‑PNHSMA共聚物；将PSBMA‑b‑PNHSMA嵌段聚合物与经多巴胺改性的纳米片通过“一锅法”制备得到两性离子聚合物修饰的纳米片MoS2@PDA@PSBMA。在本发明的制备工艺中，各种功能组分之间可以相互促进，能够更好地发挥生物功能，使得制备的MoS2@PDA@PSBMA纳米片能够清除炎症环境中过表达的活性氧，并具有优异的润滑性能用以保护关节软骨；而且本发明中的制备工艺简单，反应条件温和，不需要特殊设备，适于工业生产与应用推广。