[发明专利]一种低温快烧全抛结晶釉、包含该全抛结晶釉的艺术岩板及制备方法在审

专利信息
申请号: 202210582004.X 申请日: 2022-05-26
公开(公告)号: CN115010367A 公开(公告)日: 2022-09-06
发明(设计)人: 刘一军;汪庆刚;庞伟科;杨元东;邓来福;潘岳 申请(专利权)人: 蒙娜丽莎集团股份有限公司
主分类号: C03C8/02 分类号: C03C8/02;C03C8/14;C04B41/89
代理公司: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人: 曹芳玲;郑优丽
地址: 528211 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种低温快烧全抛结晶釉、包含该全抛结晶釉的艺术岩板及制备方法,属于陶瓷建材领域。所述低温快烧全抛结晶釉的原料组成包括:以质量百分比计,结晶抛釉90‑99%,引晶干粒0.5‑5.0%,熔块0.5‑5.0%;所述引晶干粒的化学组成包括:以质量百分比计,Na2O:5.0‑8.0%;SiO2:20‑40%;Al2O3:5.0‑10%;ZnO:30‑60%;TiO2:1.0‑8.0%。
搜索关键词: 一种 低温 快烧全抛 结晶 包含 艺术 制备 方法
【主权项】:
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