[发明专利]光罩版清洁装置

摘要

本发明公开了一种光罩版清洁装置，用于清洁光罩版，所述光罩版清洁装置包括：机架、第一槽和第二槽；所述第一槽设于所述机架，所述第一槽用于盛装清洗药液，所述光罩版浸入清洗药液；所述第二槽设于所述机架，第二槽与所述第一槽间隔设置，所述第二槽用于冲洗所述光罩版。利用第一槽盛装清洗药液，并将光罩版浸入清洗药液中，从而可以全面、彻底的溶解污染物，再利用第二槽对光罩版进行冲洗，可以更加彻底的清理光罩版上的污染物，可以避免光罩版残留杂物，进而能够提高光刻工艺产品良率，减少光刻制程缺陷的产生。同时，设置第一槽和第二槽，可以同步完成两个光罩版的清洁操作，能够提高光罩版清洁装置的清洁效率。