[发明专利]光罩版清洁装置

说明书

本发明公开了一种光罩版清洁装置，用于清洁光罩版，所述光罩版清洁装置包括：机架、第一槽和第二槽；所述第一槽设于所述机架，所述第一槽用于盛装清洗药液，所述光罩版浸入清洗药液；所述第二槽设于所述机架，第二槽与所述第一槽间隔设置，所述第二槽用于冲洗所述光罩版。利用第一槽盛装清洗药液，并将光罩版浸入清洗药液中，从而可以全面、彻底的溶解污染物，再利用第二槽对光罩版进行冲洗，可以更加彻底的清理光罩版上的污染物，可以避免光罩版残留杂物，进而能够提高光刻工艺产品良率，减少光刻制程缺陷的产生。同时，设置第一槽和第二槽，可以同步完成两个光罩版的清洁操作，能够提高光罩版清洁装置的清洁效率。

技术领域

本发明涉及芯片制造领域，特别涉及一种光罩版清洁装置。

背景技术

光罩版也叫光掩膜版、掩膜版，光罩版是光刻工艺所使用的图形母版。光罩版可以在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，从而便于光致抗蚀剂涂层选择性曝光。光罩版应用十分广泛，涉及光刻工艺的领域几乎都需要使用掩膜版，如IC(Integrated Circuit，集成电路)、FPD(Flat Panel Display，平板显示器)、PCB(PrintedCircuit Boards，印刷电路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统)等。

在光刻制程过程中，常常会产生光刻制程灰尘，光罩版可能会被灰尘或其他原因污染，从而影响光刻工艺产品的良率。

发明内容

本发明要解决的技术问题是为了克服现有技术中光罩版在使用过程中会被污染的上述缺陷，提供一种光罩版清洁装置。

本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题：

一种光罩版清洁装置，用于清洁光罩版，所述光罩版清洁装置包括：机架、第一槽和第二槽；所述第一槽设于所述机架，所述第一槽用于盛装清洗药液，所述光罩版浸入清洗药液；所述第二槽设于所述机架，第二槽与所述第一槽间隔设置，所述第二槽用于冲洗所述光罩版。

在本方案中，通过采用以上结构，利用第一槽盛装清洗药液，并将光罩版浸入清洗药液中，从而可以全面、彻底的溶解污染物，再利用第二槽对光罩版进行冲洗，可以更加彻底的清理光罩版上的污染物，可以避免光罩版残留杂物，进而能够提高光刻工艺产品良率，减少光刻制程缺陷的产生。同时，设置第一槽和第二槽，可以同步完成两个光罩版的清洁操作，能够提高光罩版清洁装置的清洁效率。

较佳地，所述光罩版清洁装置还包括帘部，所述帘部设于所述第一槽，所述帘部用于喷出清洗液以对所述光罩版冲洗。

在本方案中，通过采用以上结构，利用帘部对光罩版进行冲洗，可以更加彻底的冲掉光罩版上的残留清洗药液及污染物。

较佳地，所述帘部包括顺次相连通的进管、储液腔及出口，清洗液经所述进管流入所述储液腔，清洗液经所述出口喷至所述光罩版。

在本方案中，通过采用以上结构，利用储液腔可以稳定清洗液的压力，使得清洗液流动更加稳定、可控。帘部包括顺次相连通的进管、储液腔及出口，结构简单，便于装配。

较佳地，所述出口的高度与所述光罩版靠近所述出口的侧边的高度相应；

和/或，所述出口的长度大于所述光罩版靠近所述出口的侧边的长度；

和/或，所述进管包括干管及若干支管，所述干管通过所述支管与所述储液腔相连通，若干所述支管沿所述储液腔的长度方向均匀间隔设置。

在本方案中，通过采用以上结构，出口的高度与光罩版靠近出口的侧边的高度相应，使得清洗液能够直接冲洗光罩版。

出口的长度大于光罩版靠近出口的侧边的长度，能够更加全面地清洗光罩版，避免光罩版出现死角。