[发明专利]光学临近修正方法、装置及电子设备

摘要

本发明提供了一种光学临近修正方法、装置及电子设备。在本发明提供了一种光学临近修正方法中，其通过将测试版图中的所有主图形按照图形尺寸的不同进行分类，然后将分类后的各类主图形集合中的主图形按照其图形尺寸的不同设置不同的光学临近修正的循环迭代次数，从而避免了现有技术中对测试版图中的任何主图形都采用同一光学临近修正的循环迭代次数（利用小图形尺寸的主图形的收敛度而确定的次数较多的OPC循环迭代次数），造成的测试版图的整体OPC执行时间过长，以及人力和物力资源浪费的问题。