[发明专利]用于纳米压印工艺的光刻胶及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202210482013.1 | 申请日： | 2022-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN114690563A | 公开（公告）日： | 2022-07-01 |
| 发明（设计）人： | 孙逊运;张盼;温赞伟;李巧玲 | 申请（专利权）人： | 潍坊星泰克微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/075 | 分类号： | G03F7/075;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 王焕 |
| 地址： | 261000 山东省潍坊市高新技术开*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： |
本发明涉及纳米压印技术领域，尤其是涉及一种用于纳米压印工艺的光刻胶及其制备方法和应用。用于纳米压印技术的光刻胶，包括按质量百分比计的胶体基体85％～99.9％和含硅丙烯酸酯类偶联剂0.1％～15％。本发明通过在胶体基体中引入含硅的丙烯酸酯类偶联剂，其中的Si‑OCH |
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| 搜索关键词： | 用于 纳米 压印 工艺 光刻 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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