[发明专利]用于纳米压印工艺的光刻胶及其制备方法和应用

权利要求书

1.用于纳米压印工艺的光刻胶，其特征在于，包括按质量百分比计的胶体基体85％～99.9％和含硅丙烯酸酯类偶联剂0.1％～15％。

2.根据权利要求1所述的用于纳米压印工艺的光刻胶，其特征在于，包括按质量百分比计的胶体基体88％～99％和含硅丙烯酸酯类偶联剂1％～12％；

优选的，所述光刻胶包括按质量百分比计的胶体基体92％～94％和含硅丙烯酸酯类偶联剂6％～8％。

3.根据权利要求1所述的用于纳米压印工艺的光刻胶，其特征在于，所述含硅丙烯酸酯类偶联剂选自甲基丙烯酸丙基三甲氧基硅烷酯、丙烯酸丙基三甲氧基硅烷酯、甲基丙烯酸丙基二甲氧基甲基硅烷酯、丙烯酸丙基二甲氧基甲基硅烷酯、甲基丙烯酸甲基三甲氧基硅烷酯、丙烯酸甲基三甲氧基硅烷酯、甲基丙烯酸甲基二甲氧基甲基硅烷酯和丙烯酸甲基二甲氧基硅烷酯中的任一种或多种。

4.根据权利要求1所述的用于纳米压印工艺的光刻胶，其特征在于，所述胶体基体包括按重量份数计的如下组分：

10～25份丙烯酸酯、1～6份光引发剂、5～15份活性稀释剂和30～70份溶剂。

5.根据权利要求4所述的用于纳米压印工艺的光刻胶，其特征在于，所述光引发剂包括2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗琳-1-丙酮、异丙基硫杂蒽酮、2,4-二乙基硫杂蒽酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化磷、4-(N,N’-二甲基-氨基)苯甲酮、1-羟基环己基苯基甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基1-丙酮和二苯甲酮中的任一种或多种。

6.根据权利要求4所述的用于纳米压印工艺的光刻胶，其特征在于，所述活性稀释剂包括丙烯酸异冰片酯、三丙二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二羟甲基丙烷四丙烯酸酯和1,6-己二醇二丙烯酸酯中的任一种或多种。

7.根据权利要求4所述的用于纳米压印工艺的光刻胶，其特征在于，所述溶剂包括丙二醇单甲醚、丙二醇单丁醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇单甲醚、二丙二醇二甲醚、二丙二醇单甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、乙酸丁酯和乳酸丁酯中的任一种或多种。

8.权利要求1-7任一项所述的用于纳米压印工艺的光刻胶的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

按比例混合各所述组分。

9.权利要求1-7任一项所述的用于纳米压印工艺的光刻胶在纳米压印中的应用。

10.根据权利要求9所述的应用，其特征在于，所述纳米压印的方法包括：将所述光刻胶涂布于经过净化处理的基片表面后进行预烘，然后压印图形并使所述图形固化成型，然后再脱膜，得到压印光刻胶图形。